substrato del Photomask del cuarzo del × 300m m de 350m m para el uso de FPD
Usos
Los campos del proceso de la fotolitografía, tales como fabricación del microprocesador del circuito integrado, FPD (pantalla plana),
MEMS (electro sistemas mecánicos micro), etc.
Principio de funcionamiento
La máscara es una máscara principal gráfica de uso general en fotolitografía de la fabricación micro-nana. La estructura gráfica
es formado en un substrato transparente por un photomask opaco, y entonces la información gráfica se transfiere a
substrato del producto con un proceso de la exposición.
Características
Substrato del Photomask para el uso de FPD
| Modelo/material | Tamaño | Capacidad de proceso |
| 3035 / Cuarzo | × 300m m de 350m m | Pulido, puliendo, galjanoplastia de Chrome, pegando |
Flujo de proceso
Detección de las materias primas del →;
Pulido áspero del →;
Pulido áspero del →;
Limpieza de la máscara del →;
Inspección del funcionamiento de las materias primas del →;
El → plateó por el cromo;
Prueba de funcionamiento de la máscara del →;
Capa de la fotoprotección del →;
Empaquetado del →;
Transporte del →.
Nuestras ventajas
Somos fabricante.
Proceso maduro.
Contestación en el plazo de 24 horas de trabajo.
Nuestra certificación del ISO
Partes de nuestras patentes
Partes de nuestros premios y calificaciones del R&D
Nuestros productos se venden en todo el mundo, puede estar seguro de todo el proceso de nuestros productos.
