La ceremonia innovadora del proyecto de construcción de gama alta de la instalación piloto del substrato del photomask de ZEIT fue llevada a cabo en la pantalla de Chengdu y la base manufacturera inteligente de la base el 21 de junio de 2022. El Dr. Yang Wei (presidente de ZEIT), ejecutivos y algunos invitados asistió a esta ceremonia.
La instalación piloto cubre un área de 8000m2, e implica cuartos, la fundación del aislamiento de vibración, el etc. ultra-limpios de alto grado. Después de la realización, ZEIT puede realizar la localización del substrato de gama alta de la máscara del cuarzo y la industrialización controlable autónoma del equipo de la base. El valor estimado de la salida anual de la planta es más de 15 millones de dólares. Se convertirá en el único fabricante de gama alta nacional del substrato de la máscara del cuarzo con los equipos de la base y las líneas de montaje nacionales puras, que llenan un hueco en los campos de la investigación y del uso del substrato de gama alta de la máscara del cuarzo.
El Dr. Yang hizo un discurso en esta ceremonia: En primer lugar, él agradeció a los gobiernos por sus ayudas de la inversión. En segundo lugar, él agradeció al personal por sus esfuerzos continuos y brechas técnicas en los equipos de la base y el proceso avanzado. Finalmente, él agradeció a los inversores del ángel por su confianza. ZEIT se convertirá en la base de gama alta integrada de primera clase, y de la industria-universidad-investigación avanzada, internacional nacional de la base y de la pantalla del cuarzo de la máscara del substrato de la producción.
Adhiriéndose a la filosofía del negocio de “perseguir excelencia sin límites”, ZEIT continúa ofreciendo la óptica de la precisión, los clientes del semiconductor y otros con mejores productos y los servicios, tales como exhibición, circuito integrado y espacio aéreo, etc. de alta definición.