El centro de tecnología de capa de ZEIT ha emprendido el proyecto de desarrollo de proceso de Suzhou PECVD. Después de mitad de un mes del desarrollo de proceso y de la brecha tecnológica, ZEIT terminó el proceso de PECVD de SiNx y las películas SiO2, alcanzaron los índices de la uniformidad de la superficie y de cada uniformidad de la capa.
Con este proyecto, ZEIT ha formado propias características en las tecnologías de base del equipo de PECVD, tales como RF que hacía juego, la presión rápida y estable de la reacción, distribución uniforme de la circulación de aire, y también tiene soluciones propuestas para la contaminación del polvo, la superficie modelada de la película, la cámara autolimpiador, el etc. que se presentaba de ése, ZEIT ha acumulado mucha experiencia de la optimización del equipo de PECVD y del ajuste tecnológico, que ha puesto una fundación sólida para la substitución de importación, la industrialización, y las relaciones con los clientes continuas.