6 × 6 × 0,12 pulgadas MEMS Chrome Photomask Substrato Recubrimiento fotorresistente

Sustrato de cuarzo Photomask de 6 pulgadas × 6 pulgadas × 0,12 pulgadas para uso con chips

Aplicaciones

Los campos del proceso de fotolitografía, como la fabricación de chips de circuitos integrados, FPD (Pantalla plana),

MEMS (Sistemas Micro Electro Mecánicos), etc.

Principio de funcionamiento

Máscara es una máscara maestra gráfica comúnmente utilizada en fotolitografía de micro-nano fabricación.La estructura gráfica

se forma sobre un sustrato transparente por una fotomáscara opaca, y luego la información gráfica se transfiere a la

sustrato del producto a través de un proceso de exposición.

Características

                                                        Sustrato Photomask para uso de chips

Flujo del proceso

→ Detección de materias primas;

→ Rectificado basto;

→ Pulido en bruto;

→ Limpieza de máscaras;

→ Inspección de rendimiento de materias primas;

→ Plateado por cromo;

→ Pruebas de rendimiento de mascarillas;

→ Recubrimiento fotorresistente;

→ Embalaje;

→ Transporte.

Nuestras ventajas

Somos fabricante.

Proceso maduro.

Responder dentro de las 24 horas hábiles.

Nuestra Certificación ISO

Partes de nuestras patentes

Partes de nuestros premios y calificaciones de I + D