El dieléctrico filma la deposición de capa óptica de la farfulla del magnetrón del O2 PVD del N2 de AR del equipo
Usos
| Usos | Propósito específico | Tipo material |
| Semiconductor | IC, electrodo de la LSI, atando con alambre la película | AI, Al-Si, Al-Si-Cu, Cu, Au, pinta, paladio, AG |
| Electrodo de la memoria del VLSI | MES, W, Ti | |
| Película de la barrera de difusión | MoSix, Wsix, TaSix, TiSx, W, MES, W-Ti | |
| Película adhesiva | PZT (Pb-ZrO2-Ti), Ti, W | |
| Exhibición | Película conductora transparente | ITO (In2O; - SnO2) |
| Película del cableado del electrodo | MES, W, Cr, TA, Ti, Al, AlTi, AITa | |
| Película electroluminiscente |
ZnS-manganeso, ZnS-TB, CAS-Eu, Y2O3, TA2O5, BaTiO3 |
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| Grabación magnética | Película de registración magnética vertical | CoCr |
| Película para el disco duro | CoCrTa, CoCrPt, CoCrTaPt | |
| Cabeza magnética de la película fina | CoTaZr, CoCrZr | |
| Película cristalina artificial | Copto, CoPd | |
| Grabación óptica | Película de grabación del disco del cambio de fase | TeSe, SbSe, TeGeSb, etc |
| Película de grabación del disco magnético |
TbFeCo, DyFeCo, TbGdFeCo, TbDyFeCo |
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| Película reflexiva del disco óptico | AI, AITi, AlCr, Au, aleación del Au | |
| Película de la protección del disco óptico | Si3N4, SiO2+ZnS | |
| Batería de la fino-película de la perovskita | Capa que conduce transparente | ZnO: Al |
| Tratamiento médico | Materiales biocompatibles | Al2O3, TiO2 |
| Capa decorativa | Película coloreada, película metalizada | Al2O3, TiO2, ytoda clasedepelículasdelmetal |
| capa de la Anti-descoloración | Capa de la antioxidación del metal precioso | Al2O3, TiO2 |
| Películas ópticas | Índice de refracción alto-bajo | SiO2, TiO2, TA2O5,₂deZrO, HfO2 |
| Otros usos | Película resistente a la luz | Cr, AlSi, AlTi, etc |
| Película resistente | NiCrSi, CrSi, MoTa, etc | |
| Película superconductora | YbaCuO, BiSrCaCuo | |
| De película magnética | FE, Co, Ni, FeMn, FeNi, etc |
Características
| Modelo | MSC700-750-700 |
| Tipo de capa | Diversas películas dieléctricas tales como óxido de película metálica, de metal y AIN |
| Gama de temperaturas de capa | Temperatura normal a 500℃ (adaptable) |
| Tamaño de capa de la cámara de vacío | 700mm*750mm*700m m (adaptable) |
| Vacío del fondo | <5>-7mbar |
| Grueso de capa | ≥10nm |
| Precisión de control del grueso | el ≤±3% |
| Tamaño de capa máximo | ≥100mm (adaptable) |
| Uniformidad del espesor del film | el ≤±0.5% |
| Portador del substrato | Con el mecanismo planetario de la rotación |
| Material de blanco | pulgadas 4x4 (compatibles con 4 pulgadas y abajo) |
| Fuente de alimentación | Las fuentes de alimentación tales como DC, pulso, RF, SI y el prejuicio es opcional |
| Gas de proceso | AR, N2, O2 |
| Nota: Producción modificada para requisitos particulares disponible. | |
Pasos de proceso
El → coloca el substrato para cubrir en la cámara de vacío;
El → vacuumize áspero;
El → da vuelta en la bomba molecular, vacuumize a velocidad máxima, después da vuelta en la revolución y la rotación;
→ que calienta la cámara de vacío hasta que la temperatura alcance la blanco;
El → ejecuta el control de la temperatura constante;
El → limpia elementos;
El → gira y de nuevo al origen;
Película de capa del → según requisitos de proceso;
El → bajo temperatura y para el montaje de la bomba después de cubrir;
El → para el trabajar cuando se acaba la operación automática.
Muestra de capa
Principio de funcionamiento
El magnetrón que farfulla es una clase de la deposición de vapor física (PVD). Hace el movimiento de los electrones en espiral
trayectorias cerca de la superficie de la blanco por la interacción entre los campos magnéticos y eléctricos, así aumento
probabilidad de los electrones que golpean el gas del argón para generar los iones. Los iones generados entonces golpearon la superficie de la blanco
bajo acción del campo eléctrico y farfullar los materiales de blanco a la película fina del deposite en la superficie del substrato.
El método general de la farfulla se puede utilizar para la preparación de los diversos metales, semiconductores, ferromagnéticos
materiales, así como óxidos aislados, cerámica y otras sustancias. El equipo utiliza tacto de PLC+
sistema de control del panel HMI, que puede incorporar parámetros por el interfaz de proceso programable, con las funciones
por ejemplo la sola blanco que farfulla, farfullando secuencial de objetivos múltiples y co-farfullando.
Nuestras ventajas
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Proceso maduro.
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