Deposición de capa atómica en Industria de cabezales magnéticos
Aplicaciones
| Aplicaciones | Propósito específico |
| Cabeza magnética |
Capa espaciadora aislante de deposición no plana |
Principio de funcionamiento
La tecnología de deposición de capas atómicas es la que hace que los precursores que estarán involucrados en la reacción sean guiados al
cámara de reacción secuencialmente (un precursor a la vez) a través de diferentes conductos de precursores.Por saturación
quimisorción en la superficie del sustrato, solo se adsorbe una capa de precursor a la vez.El exceso de precursores
y los subproductos serán purgados con gases inertes Ar o N2para lograr la autolimitación.
Características
| Modelo | ALD-MH-X—X |
| Sistema de película de recubrimiento | Alabama2O3,TiO2,ZnO, etc. |
| Rango de temperatura de recubrimiento | Temperatura normal a 500 ℃ (personalizable) |
| Tamaño de la cámara de vacío de recubrimiento |
Diámetro interior: 1200 mm, Altura: 500 mm (Personalizable) |
| Estructura de la cámara de vacío | Según los requisitos del cliente |
| Vacío de fondo | <5×10-7mbar |
| Espesor de recubrimiento | ≥0.15nm |
| Precisión de control de espesor | ±0.1nm |
| Tamaño del recubrimiento | 200×200 mm² / 400×400 mm² / 1200×1200 mm², etc. |
| Uniformidad del espesor de la película | ≤±0,5% |
| Precursor y gas portador |
Trimetilaluminio, tetracloruro de titanio, dietil zinc, agua pura, nitrógeno, etc |
| Nota: Producción personalizada disponible. | |
Muestras de revestimiento
Los pasos del proceso
→ Coloque el sustrato para recubrir en la cámara de vacío;
→ Aspire la cámara de vacío a alta y baja temperatura, y gire el sustrato sincrónicamente;
→ Inicio de recubrimiento: el sustrato se pone en contacto con el precursor en secuencia y sin reacción simultánea;
→ Purgarlo con gas nitrógeno de alta pureza después de cada reacción;
→ Deje de rotar el sustrato después de que el espesor de la película alcance el estándar y la operación de purga y enfriamiento se haya completado.
completado, luego saque el sustrato después de que se cumplan las condiciones de interrupción del vacío.
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