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HfO2 Deposition Magnetron Sputtering Coating Machine For Optics Industry

Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica

  • Alta luz

    Deposición por pulverización catódica de magnetrón de la industria óptica

    ,

    máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón óptico

    ,

    máquina de recubrimiento por pulverización catódica de magnetrón HfO2

  • Peso
    Adaptable
  • Tamaño
    Adaptable
  • Adaptable
    Disponible
  • Período de garantía
    1 año o caso por caso
  • CONDICIONES DE ENVÍO
    Por Mar / Aire / Transporte Multimodal
  • Lugar de origen
    Chengdu, P. R. CHINA
  • Nombre de la marca
    ZEIT
  • Certificación
    Case by case
  • Número de modelo
    MSC-O-X—X
  • Cantidad de orden mínima
    1 juego
  • Precio
    Case by case
  • Detalles de empaquetado
    caja de madera
  • Tiempo de entrega
    Caso por caso
  • Condiciones de pago
    T/T
  • Capacidad de la fuente
    Caso por caso

Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica

Deposición de la farfulla del magnetrón en industria de la óptica
 
 
Usos

Usos Propósito específico Tipo material
La óptica

Películas ópticas tales como película de antireflejos,
índice de refracción alto-bajo

SiO2, TiO2, TA2O5, ZrO2, HfO2
Vidrio bajo en emisiones

Capas múltiples del metal (plata, cobre, lata, etc.)
u otros compuestos

Vidrio que conduce transparente ZnO: Al, etc

 
Principio de funcionamiento
Las características del magnetrón que farfullan son alta tarifa filmógena, temperatura baja del substrato, buena adherencia de la película
y capa realizable de la área extensa. Esta tecnología se puede dividir en la farfulla del magnetrón de DC y el magnetrón del RF
farfulla.
 
Características

  Modelo   MSC-O-X-X
  Tipo de capa   Diversas películas dieléctricas tales como óxido de película metálica, de metal y AIN
  Gama de temperaturas de capa   Temperatura normal a 500℃
  Tamaño de capa de la cámara de vacío   700mm*750mm*700m m (adaptable)
  Vacío del fondo   < 5="">-7mbar
  Grueso de capa   ≥ 10nm
  Precisión de control del grueso   ≤ el ±3%
  Tamaño de capa máximo   ≥ 100m m (adaptable)
  Uniformidad del espesor del film   ≤ el ±0.5%
  Portador del substrato   Con el mecanismo planetario de la rotación
  Material de blanco   pulgadas 4×4 (compatibles con 4 pulgadas y abajo)
  Fuente de alimentación   Las fuentes de alimentación tales como DC, pulso, RF, SI y el prejuicio es opcional
  Gas de proceso   AR, N2, O2
Nota: Producción modificada para requisitos particulares disponible.

                                                                                                                
Muestra de capa

Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica 0

 

Pasos de proceso
El → coloca el substrato para cubrir en la cámara de vacío;
→ Vacuumize la cámara de vacío en la temperatura del cielo y tierra, y girar el substrato síncrono;
El → comienza a cubrir: el substrato se entra en contacto con con el precursor en orden y sin la reacción simultánea;
El → lo purga con el gas de gran pureza del nitrógeno después de cada reacción;
La parada del → que gira el substrato después de que el espesor del film sea hasta estándar y la operación de la purga y del enfriamiento es
terminado, después tome hacia fuera el substrato después del vacío que rompe condiciones se encuentran.
 
Nuestras ventajas
Somos fabricante.
Proceso maduro.
Contestación en el plazo de 24 horas de trabajo.
 
Nuestra certificación del ISO
Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica 1
 
Partes de nuestras patentes
Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica 2Máquina de capa de la pulverización catódica del magnetrón de la deposición HfO2 para la industria de la óptica 3
 
Partes de nuestros premios y calificaciones del R&D

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