Deposición de la farfulla del magnetrón en industria de la óptica
Usos
Usos | Propósito específico | Tipo material |
La óptica |
Películas ópticas tales como película de antireflejos, |
SiO2, TiO2, TA2O5, ZrO2, HfO2 |
Vidrio bajo en emisiones |
Capas múltiples del metal (plata, cobre, lata, etc.) |
|
Vidrio que conduce transparente | ZnO: Al, etc |
Principio de funcionamiento
Las características del magnetrón que farfullan son alta tarifa filmógena, temperatura baja del substrato, buena adherencia de la película
y capa realizable de la área extensa. Esta tecnología se puede dividir en la farfulla del magnetrón de DC y el magnetrón del RF
farfulla.
Características
Modelo | MSC-O-X-X |
Tipo de capa | Diversas películas dieléctricas tales como óxido de película metálica, de metal y AIN |
Gama de temperaturas de capa | Temperatura normal a 500℃ |
Tamaño de capa de la cámara de vacío | 700mm*750mm*700m m (adaptable) |
Vacío del fondo | < 5="">-7mbar |
Grueso de capa | ≥ 10nm |
Precisión de control del grueso | ≤ el ±3% |
Tamaño de capa máximo | ≥ 100m m (adaptable) |
Uniformidad del espesor del film | ≤ el ±0.5% |
Portador del substrato | Con el mecanismo planetario de la rotación |
Material de blanco | pulgadas 4×4 (compatibles con 4 pulgadas y abajo) |
Fuente de alimentación | Las fuentes de alimentación tales como DC, pulso, RF, SI y el prejuicio es opcional |
Gas de proceso | AR, N2, O2 |
Nota: Producción modificada para requisitos particulares disponible. |
Muestra de capa
Pasos de proceso
El → coloca el substrato para cubrir en la cámara de vacío;
→ Vacuumize la cámara de vacío en la temperatura del cielo y tierra, y girar el substrato síncrono;
El → comienza a cubrir: el substrato se entra en contacto con con el precursor en orden y sin la reacción simultánea;
El → lo purga con el gas de gran pureza del nitrógeno después de cada reacción;
La parada del → que gira el substrato después de que el espesor del film sea hasta estándar y la operación de la purga y del enfriamiento es
terminado, después tome hacia fuera el substrato después del vacío que rompe condiciones se encuentran.
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