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Al2O3 TiO2 Magnetron Sputtering Deposition System For Medical Treatment

Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

  • Alta luz

    Deposición de pulverización catódica de magnetrón de tratamiento médico

    ,

    Deposición de pulverización catódica de magnetrón Al2O3 TiO2

    ,

    Sistema de pulverización catódica de magnetrón de tratamiento médico

  • Peso
    personalizable
  • Tamaño
    personalizable
  • personalizable
    Disponible
  • Período de garantía
    1 año o caso por caso
  • Condiciones de envío
    Por Mar / Aire / Transporte Multimodal
  • Lugar de origen
    Chengdu, P. R. CHINA
  • Nombre de la marca
    ZEIT
  • Certificación
    Case by case
  • Número de modelo
    MSC-MT-X—X
  • Cantidad de orden mínima
    1 juego
  • Precio
    Case by case
  • Detalles de empaquetado
    caja de madera
  • Tiempo de entrega
    Caso por caso
  • Condiciones de pago
    T/T
  • Capacidad de la fuente
    Caso por caso

Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico

Deposición por pulverización catódica de magnetrón en la industria del tratamiento médico
 
 
Aplicaciones    

     Aplicaciones     Propósito específico     tipo de material
    Tratamiento médico     Materiales biocompatibles      Alabama2O3, TiO2

 
Principio de funcionamiento
El principio básico de la pulverización catódica con magnetrón es que los electrones chocan con los átomos de argón en el proceso de volar a

lasustrato bajo la acción del campo eléctrico, los iones de argón producidos bombardean la superficie objetivo.Después de la energía

intercambio,los átomos en la superficie objetivo escapan de la red originaly se transfieren al sustrato

superficie para formar películas.
 
Características 

  Modelo   MSC-MT-X—X
 tipo de recubrimiento   Varias películas dieléctricas como película metálica, óxido metálico y AIN
 Rango de temperatura de recubrimiento   Temperatura normal a 500 ℃
 vacío de recubrimientocámara size  700 mm * 750 mm * 700 mm (personalizable)
  Vacío de fondo   <5×10-7mbar
 Espesor de recubrimiento   ≥ 10nm
  Precisión de control de espesor  ≤ ±3%
 Tamaño máximo de recubrimiento   ≥ 100 mm (personalizable)
  Uniformidad del espesor de la película   ≤ ±0,5 %
  Portador de sustrato  Con mecanismo de rotación planetario
  material objetivo   4×4 pulgadas (compatible con 4 pulgadas y menos)
  Fuente de alimentación  Las fuentes de alimentación como CC, pulso, RF, IF y polarización son opcionales
  gas de proceso   AR, N2, oh2
  Nota: Producción personalizada disponible.

                                                                                                                
Muestra de recubrimiento

Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico 0

 

Los pasos del proceso 
→ Coloque el sustrato para recubrir en la cámara de vacío;
→ Aspire aproximadamente;
→ Encienda la bomba molecular, aspire a máxima velocidad, luego encienda la revolución y la rotación;
→ Calentar la cámara de vacío hasta que la temperatura alcance el objetivo;
→ Implementar el control de temperatura constante;
→ Elementos limpios;
→ Girar y volver al origen;
→ Película de recubrimiento según los requisitos del proceso;
→ Baje la temperatura y detenga el conjunto de la bomba después del recubrimiento;
→ Deja de funcionar cuando finaliza la operación automática;

 
Nuestras ventajas
Somos fabricante.
Proceso maduro.
Responder dentro de las 24 horas hábiles.

 
Nuestra Certificación ISO
Sistema de depósito por pulverización catódica del magnetrón de Al2O3 TiO2 para el tratamiento médico 1
 

Partes de nuestras patentes
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Partes de nuestros premios y calificaciones de I + D
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