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Sustrato de Photomask de cuarzo de 350 × 300 mm para la fabricación de chips de circuitos integrados
Pulido Pulido Cromado 5280 Cuarzo Photomask Sustrato 800mm×520mm
Equipo de sistema de medición de birrefringencia VIS 520nm 590nm 650nm
Resolución 1.8μM del equipo de detección de la superficie del semiconductor del polvo de los rasguños
Equipo de prueba óptico de sistemas de detección de superficie de semiconductores 40x
Equipo de detección de sistema de medición de birrefringencia de estrés de resina transparente en tiempo real
Equipo de detección de defectos de superficie de sustrato de vidrio 1.8um
Micro Electro Mechanical Systems 5009 Quarzo Photomask Sustrato 5×5×0.09 pulgadas
Equipo óptico ISO de la capa de la deposición atómica de la capa de TiO2 Al2O3 ALD
Equipo de deposición ALD de recubrimiento óptico TiO2 Al2O3 ISO
Procesamiento superficial esférico del espejo parabólico de los elementos ópticos de la película multicapa dieléctrica
6 × 6 × 0,12 pulgadas MEMS Chrome Photomask Substrato Recubrimiento fotorresistente
Línea de producción automatizada de la industria petroquímica de la nueva energía Soluciones para alimentar el sistema de obturación
Soluciones de línea de producción automatizada ZEIT para el sistema de reciclaje de limpieza
Recubridor giratorio de equipo no estándar ZEIT para la industria de procesamiento óptico
Máquina de pulido óptico del equipo no estándar de la industria petroquímica del automóvil

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