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Máquina ALD de deposición de capa atómica del biosensor para la industria de sensores
Sistemas detectores de semiconductores MOSFET Equipo de deposición de capa atómica ISO
Equipo ALD de deposición de capa atómica para la industria de envasado electrónico orgánico
Máquina ALD de deposición de capa atómica de filtración de campo de membrana de separación
Revestimiento protector Sistema de deposición de capas atómicas Revestimiento de sellado
OEM de la máquina del ALD de la deposición atómica de la capa de la industria principal magnética
Revestimiento lubricante para equipos de deposición de capas atómicas de sistemas microelectromecánicos MEMS
Máquina de deposición de capa atómica TiO2 ZnO para la industria energética
Equipo de deposición de capa atómica del catalizador del metal del óxido en la industria del catalizador
Trimetilaluminio AL2O3 TiO2 ZnO ALD Máquina de recubrimiento por deposición de capa atómica
OEM del equipo de detección de defectos de la superficie del sustrato de la máscara antipolvo para rasguños
Tamaño óptico 200×200m m de la capa del equipo de la capa de ALD Al2O3
Sustrato Photomask de cuarzo de 127 × 127 mm para uso en pantallas planas
Sustrato de fotomáscara FPD de 152 × 152 mm para fabricación micro nano
Sustrato de Photomask de cuarzo de 350 × 300 mm para la fabricación de chips de circuitos integrados
Pulido Pulido Cromado 5280 Cuarzo Photomask Sustrato 800mm×520mm

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